產品介紹:
800 W 加熱功率 (600W 于 115/100 V)
加熱盤溫度范圍: 20 - 300℃
介質溫度范圍: 達 250℃
速度范圍: 100 - 1,400 rpm
速度控制精度 : ± 2 %
加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
良好的熱傳導效率和分配性能
良好的防刮花和抗化學腐蝕性能
加熱盤直徑: 145 mm
通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制線路和加熱盤切斷功能
當盤面溫度超過設定溫度25℃時,獨立線路開關,自動停止加熱
升級磁力攪拌器可選配EKT Hei-Con溫度控制器準確控溫,防止熱沖,提高實驗重現性
三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命
電加強型大功率攪拌磁力發動機, 驅動攪拌子輕而易舉
良好的攪拌性能,處理量達 20升 (H2O)
子轉速限制,保護發動機受損
| 型號 | MR Hei-Standard |
| P/N貨號(230V) | 505-20000-00 |
| 轉速(rpm) | 1400 |
| 速度精度(%) | ±2 |
| 顯示 | - |
| 模擬/數字接口 | - |
| 加熱功率(W) | 800(*) |
| 加熱盤溫度(℃) | 20-300 |
| 介質溫度(℃) | 250 |
| 溫度設定精度(℃) | ±5 |
| 外置準確溫度探頭 | Hei-Con |
| 外置溫度探頭的溫度精度(℃) | ±1 |
| 溫度探頭破壞保護 | 通過Hei-Con |
| 溫度控制 | 微處理器 |
| 加熱盤溫度精度 | ±5 |
| 加熱盤過溫保護(℃) | 25℃高于加熱盤溫度 |
| 控制容量(H2O)(I) | 20 |
| 負載重量(Kg) | 25 |
| 功率消耗(W) | 820 |
| 環境溫度范圍(℃) | 0-40 |
| 相對濕度(%) | 80 |
| 加熱盤直徑(mm) | ?145 |
| 加熱盤材料 | 硅鋁合金陶瓷涂層 |
| 重量(Kg) | 2.6 |
| 直徑I*W*H(mm) | 173*277*94 |
| 保護等級(DIN 60529) | IP 32 |